• レーザーナノファクトリー

    フェムティカ

    フェムト秒レーザーによる2光子プロセス超微細光造形3Dプリンター。
    選択的レーザーエッチング、レーザーアブレーション、多光子重合

    続きを読む
  • UV Kub 2

    UV LEDマスク露光装置

    超小型LED露光装置

    26cmキューブ内に収めた超コンパクト露光装置。長寿命LEDのUV全面露光でウォーミングアップ不要。タッチパネル操作で簡単な露光設定。

    続きを読む
  • UV Kub 3

    UV LEDマスク露光装置

    UV-LED マスクアライナーシステム

    UV-KUB3はアライナー機能を搭載したコンパクトで低価格なUV-LED照射装置です。波長は365nm、385nm、405nmから選択することが可能。 ウオーミングアップを必要とせずに10,000時間の長寿命LEDによってΦ4インチまでの基盤または100 x 100mmエリアに全面照射できます。 発散角を2度以下に抑えたコリメート光により、最小露光サイズは2μmを達成。 研究開発部門等において、手軽に省スペースでご利用頂けます。

    続きを読む
  • Dilase 250

    クロエ

    レーザー直描露光装置

    Dilase250は、Dilaseシリーズのエントリーモデルとして開発されたコンパクトな卓上型レーザー直描露光装置です。375nmまたは405nmのUVレーザーを搭載し、4インチまでの基板サイズに対応します。2μmの最小スポット径と50mm/sのスキャン速度で微細なパターン露光を行う事ができます。

    続きを読む
  • Dilase 650

    クロエ

    レーザー直描露光装置

    Dilase650は、Dilaseシリーズのミドルモデルとして開発されたコンパクトなレーザー直描露光装置です。375nmまたは405nmのUVレーザーを搭載し、6インチまでの基板サイズに対応します。最小ビームスポット径1μmとスキャン速度500mm/sで、微細なパターン露光をより短時間で行う事ができます。

    続きを読む
  • Dilase シリーズ

    クロエ

    レーザー直描露光装置

    高アスペクト直描露光レーザー直描露光装置. マスクレス、グレースケール露光、最小スポット径0.5μm. 高アスペクト比最大 1:50、長焦点深度による3次元構造物.

    続きを読む
  • Dilase 750

    クロエ

    カスタマイズ可能レーザー直描露光装置

    Dilase750は、Dilaseシリーズの最高峰モデルとして開発された高性能なレーザー直描露光装置です。325nm,375nmまたは405nmのUVレーザーを搭載し、最大12インチまでの基板サイズに対応します。0.5μmの最小スポット径と500mm/sのスキャン速度で高度なマイクロデバイスの開発・作成を応援します。

    続きを読む
  • Dilase 3D

    クロエ

    高解像度3Dリソグラフィープリンター

    これまで作成が困難であったトラッピングセル形状のパターンがDilase3Dを使用する事で、
    非常に簡単に作成することができます。
    腸上皮内部シミュレーションの構造を、ヒドロゲル材料の一種PEGDA(ポリエチレングリコールジアクリレート)
    に形成することが可能です。

    続きを読む