次世代半導体露光装置の光源であるEUV波長
- 高EUVエネルギー 3.5mJ
- 省ガス運転（ガスパルス1ms)
- 卓上型、省スペース
- 計測用途
- 光学検査
- 物質相互作用の基礎研究用途
- ウオーターウインドウ領域での生物資料の高分解能観察(λ=2～4nm)
テーブルトップEUV
軟X線照射装置
YAGレーザー(1064nm,750mJ,6ns)を用い、使用するガスにより2~20nmの波長を発生 レジスト材料の開発やマスク及び光学部品の検査・評価用としても必要とされるツール ウォーターウィンドウ領域での生物試料の高分解能観察用、物質相互作用の基礎研究用途
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