Dilase 750

カスタマイズ可能レーザー直描露光装置

Dilase750は、Dilaseシリーズの最高峰モデルとして開発された高性能なレーザー直描露光装置です。325nm,375nmまたは405nmのUVレーザーを搭載し、最大12インチまでの基板サイズに対応します。0.5μmの最小スポット径と500mm/sのスキャン速度で高度なマイクロデバイスの開発・作成を応援します。

問い合わせ

特長

高アスペクト直描露光レーザー直描露光装置.
マスクレス、グレースケール露光、最小スポット径0.5μm.
高アスペクト比最大 1:50、長焦点深度による3次元構造物.

dilase 750 demonstration