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    FLS100H

    全偏波保持ファイバー構成フェムト秒ファイバーレーザーシステム

    高い信頼性を誇る高ピークパワーコンパクトで堅牢なフェムト秒レーザー様々な繰返し周波数でサブピコ秒のパルス幅に圧縮可能(FLCユニット使用時)

  • MicroMaster

    エキシマレーザーラインビーム照射装置 LLO/アニーリング対応

    小型から大型エキシマレーザーまで対応した、リアルタイムモニター付きエキシマレーザー微細加工装置。樹脂・エラストマー材から導電薄膜の除去/パターニングなどに対応。

  • Echo 360

    小型エキシマレーザ一搭載卓上型微細加エ装置

    小型エキシマレーザーを搭載した卓上型ワイヤーストリッパー芯線にダメージを与えずに、極細ワイヤーの絶縁体を除去。テフロンなどの熱耐性のある樹脂やエラストマーなども熱影響のない、シャープなエッジで除去。リールtoリール、XYステージなど加工用途に合わせて、カスタマイズ可能。

  • WS Turret

    3波長極短パルスレーザー多機能加工装置。

    3波長を用途別に簡単に切替え、様々な材料に対し、短いパルス幅で熱影響の少ないアブレーション加工を行う、超微細非熱精密加工装置。

  • WS Flex

    極短パルスレーザー微細加工装置

    極めて短いパルス幅のフェムト秒レーザーでは瞬時に加工を行い、周辺部に熱的、化学的な影響を及ぼさずに高品質で高精度な加工を行います非線形加工(多光子吸収)による透明材料への3次元加工も可能加工用途に合わせたフェムトレーザー搭載加工装置をご提案いたします。

  • WS Flex

    極短パルスフェムト秒レーザー搭載微細加工装置

    極めて短いパルス幅のフェムト秒レーザーでは瞬時に加工を行い、周辺部に熱的、化学的な影響を及ぼさずに高品質で高精度な加工を行います。

    非線形加工(多光子吸収)による透明材料への3次元加工も可能。加工用途に合わせたフェムトレーザー搭載加工装置をご提案いたします。

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    小型エキシマレーザー
    MLI シリーズ

    最大平均出力16W
    最大パルスエネルギー16mJ
    最大繰り返し周波数1000Hz

    低価格でR&D用途、産業用途にも対応したMLIシリーズです。長いガス寿命、操作性に優れたソフトウエアで簡単にオペレーションが可能です。。

  • 中型エキシマレーザー
    IPEX-700 シリーズ

    最大平均出力40W
    最大パルスエネルギー700mJ
    最大繰り返し周波数100Hz

    経済的なIPEX700シリーズはトータルコストを最小限に抑え、長時間の運転を可能としています。応用範囲はセラミックスのマーキングから、微細加工まで多岐にわたっています。PLD(パルスレーザーデポジション)、リフト・オフ・プロセス、表面改質、アニーリング、等。高品質のビーム、安定したエネルギー、優れたポインティングスタビリティ。高い安定光学マウントを採用、PLD用途にも最適。メンテナンスは片側アクセス、発振ガスを充填したまま、共振器のクリーニングが可能

  • 大型エキシマレーザー
    IPEX-800 シリーズ

    最大平均出力80W
    最大パルスエネルギー700mJ
    最大繰り返し周波数200Hz

    製造に要求される厳しい環境にも対応できるように設計されたIPEXシリーズは、高繰り返し、長時間ガスライフによる低ランニングコストが特長の、高品質な加工を行うことのできる高出力エキシマレーザーです。

  • HyperFine Spectrometer
    (ハイパーファイン分光器)

    超高分解能分光器. 532nmでは光学分解能<1pm (FWHM) を実現, 取得速度>通常2Hz.

  • ナノ秒パルスレーザー
    BX シリーズ

    最大平均出力80W
    最大パルスエネルギー7mJ
    最大繰り返し周波数100KHz

    EdgeWaveのナノ秒パルスレーザーBXシリーズは、INNOSLABレーザーとしては低中出力域のモデルで、最大平均出力80W、最大パルスエネルギー8mJです。
    ヘッドサイズはL420×W190×H110mmと非常にコンパクトです。

  • ナノ秒パルスレーザー
    IS シリーズ

    最大平均出力400W
    最大パルスエネルギー60mJ
    最大繰り返し周波数150KHz

    EdgeWaveのナノ秒パルスレーザーISシリーズはINNOSLABレーザーとしては中高出力域のモデルでパルス幅<1nsのレーザーです。用途に合わせた4波長(1064、532、355、266nm)のモデルがあり、主として中/高出力を必要とするアプリケーションに適しています。

  • ピコ秒パルスレーザー
    PX シリーズ

    最大平均出力600W
    最大パルスエネルギー2000μJ
    最大繰り返し周波数100MHz

    EdgeWaveピコ秒パルスレーザーは、独自のINNOSLABテクノロジーを用いたパルス幅12psの高出力、高繰り返しが特長の固体レーザーです。

  • ナノ秒パルスレーザー
    GX シリーズ

    最大平均出力800W
    最大パルスエネルギー120mJ
    最大繰り返し周波数100KHz

    GXシリーズは、INNOSLABレーザーとしては最大出力域のモデルで、
    最大800W、最大パルスエネルギー120mJです。
    ヘッドサイズはL675×W350×H150mmと非常にコンパクトです。

  • FX Hero

    フェムト秒パルスレーザー
    FX シリーズ

    最大平均出力600W
    最大パルスエネルギー3000μJ
    最大繰り返し周波数50MHz

    独自のINNOSLABテクノロジーを用いたダイオード励起のQスイッチ固体レーザーです。標準パルス幅 400-300fs アンプ一体型で、ヘッドサイズL650 x W298 x H150mm と非常にコンパクトです。

  • Stabiλaser 1542

    狭線幅、長期安定性、高い正確性アセチレン安定化レーザー

  • テーブルトップEUV

    軟X線照射装置

    YAGレーザー(1064nm,750mJ,6ns)を用い、使用するガスにより2~20nmの波長を発生 レジスト材料の開発やマスク及び光学部品の検査・評価用としても必要とされるツール ウォーターウィンドウ領域での生物試料の高分解能観察用、物質相互作用の基礎研究用途

  • 産業用TEA-CO² レーザー  Impact 2000 シリーズ

    最大平均出力75W
    最大パルスエネルギー5J
    最大繰り返し周波数500Hz

    IMPACT 2000 は主として非金属の精密加工用に設計されています。 特に穴あけ加工はこのレーザの典型的な応用分野です。INPACT2000の特長は、下の金属層にダメージを与えずにその上の非金属層に貫通穴を開けることができることです。これはプリント基板の穴あけ、ワイヤーの被覆/エナメル除去、モールドクリーニングなどの応用に対して非常に効果的です。高電圧のスイッチングには高い信頼性のSSMスイッチテクノロジーを採用し、生産ラインの運転にも対応しているほか、安定した高いパルスエネルギーを利用して超音波非破壊検査用の光源としても用いられています。

  • 高出力産業用
    TEA-CO²レーザー
    Impact 3000 シリーズ

    最大平均出力300W
    最大パルスエネルギー3J
    最大繰り返し周波数400Hz

    IMPACT 3000シリーズは表面レイヤーの除去やクリーニング、非破壊検査、そして光化学などの分野で利用する高出力(最大300W)短パルスCO2レーザーです。ペイント剥離、金型クリーニング、同位体分離や遠隔検知/LIDERなど多様な分野で活用することができます。

    パルス繰り返しが最も高いモデル (3400) では、レーザー超音波検査用の光源用として利用されます。

  • 9.2~10.8μm波長選択可能
    Impact 4000 シリーズ

    最大平均出力60W
    最大パルスエネルギー5J
    最大繰り返し周波数150Hz

    IMPACT 4000 は IMPACT 2000 をベースにR&D用途から工業用途まで対応しています。高電圧のスイッチングには、速度の速いサイラトロンを使用しており、TEA CO2レーザーとしては極端に短いパルス幅(100ns前後)を達成しました。オプションには、9.2~10.8μmの間のCO2発振線から波長を選択できるグレーティング、ビーム品質に優れたTEM00モード化も用意されています。

    数台のIMPACT4000を直列に並べて、1台をTEM00オシレーターとして2台目以降をアンプとして高出力を得るMOPA(Master-Oscillator / Power Amplifier)の御相談も承ります。

  • UV Kub 3

    UV-LED マスクアライナーシステム

    UV-KUB3はアライナー機能を搭載したコンパクトで低価格なUV-LED照射装置です。波長は365nm、385nm、405nmから選択することが可能。 ウオーミングアップを必要とせずに10,000時間の長寿命LEDによってΦ4インチまでの基盤または100 x 100mmエリアに全面照射できます。 発散角を2度以下に抑えたコリメート光により、最小露光サイズは2μmを達成。 研究開発部門等において、手軽に省スペースでご利用頂けます。

  • UV Kub 2

    超小型LED露光装置

    26cmキューブ内に収めた超コンパクト露光装置。長寿命LEDのUV全面露光でウォーミングアップ不要。タッチパネル操作で簡単な露光設定。

  • Dilase 650

    レーザー直描露光装置

    Dilase650は、Dilaseシリーズのミドルモデルとして開発されたコンパクトなレーザー直描露光装置です。375nmまたは405nmのUVレーザーを搭載し、6インチまでの基板サイズに対応します。最小ビームスポット径1μmとスキャン速度500mm/sで、微細なパターン露光をより短時間で行う事ができます。

  • Dilase 750

    レーザー直描露光装置

    Dilase750は、Dilaseシリーズの最高峰モデルとして開発された高性能なレーザー直描露光装置です。325nm,375nmまたは405nmのUVレーザーを搭載し、最大12インチまでの基板サイズに対応します。0.5μmの最小スポット径と500mm/sのスキャン速度で高度なマイクロデバイスの開発・作成を応援します。

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