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ビーム株式会社はレーザー光源及びレーザー加工装置の提案/試作加工を行っています。

TEL. 042-797-4141

営業時間:平日9:00~18:00まで

テーブルトップEUV軟X線照射装置

●高EUVエネルギー 3.5mJ
●省ガス運転(ガスパルス1ms)
●卓上型、省スペース
●計測用途
●光学検査
●物質相互作用の基礎研究用途
●ウオーターウインドウ領域での生物資料の高分解能観察(λ=2~4nm)

社団法人レーザー・ラボラトリウム・ゲッティンゲン

次世代半導体露光装置

YAGレーザー(1064nm,750mJ,6ns)を用い、使用するガスにより2~20nmの波長を発生。
レジスト材料の開発やマスク及び光学部品の検査・評価用としても必要とされるツール。
ウオーターウインドウ領域での生物資料の高分解能観察、物質相互作用の基礎研究用途。

【仕様】

 波長  2~20nm
 パルスエネルギー  3.5mJ
 変換効率(Xe)  0.45%
 パルス幅  6ns
 パルス形状  ほぼ球状(300μm)
 パルス間安定性  10%
 照射位置安定性  10%
 繰り返し周波数  1~10Hz




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バナースペース

ビーム株式会社

〒194-0215
東京都町田市小山ヶ丘2-2-5
まちだテクノパーク
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FAX 042-797-4441