テーブルトップEUV軟X線照射装置

次世代半導体露光装置の光源であるEUV波長

  • 高EUVエネルギー 3.5mJ
  • 省ガス運転(ガスパルス1ms)
  • 卓上型、省スペース
  • 計測用途
  • 光学検査
  • 物質相互作用の基礎研究用途
  • ウオーターウインドウ領域での生物資料の高分解能観察(λ=2~4nm)